共通 知的財産論 5年・前期・選択・履修1単位
担当教員 櫻井 博行 連絡先 
講義の概要 今日、知的財産制度の理解は全産業人必須のものとなった。授業では特許法を中心に実用新案法、意匠法、商標法、不正競争防止法、しそて著作権法等それぞれの基本構造と内容を講じ、時代の趨勢を見据えた技術者養成を目指す。
到達目標 知的財産の全体像を把握し、知的財産の容体に対応した的確な保護と活用の基礎力を修得する。
知的財産の重要性を理解し、講学上はもとよりビジネスにおける自からの対応の幅を拡げる。
日程授業項目理解すべき内容 理解度
(1~4)
前期 第1週 知的財産・同制度の全体像(授業の全体像を含む) 知的財産とは、知的財産制度と知的財産法、知的財産権の法的性格、知的財産の歴史的経緯と現状等、法律用語  
第2週 特許と実用新案(特許法と実用新案法 保護主体(発明者主義、権利主義、先願主義)、保護客体(発明、考案)、特許要件(対比:実用新案登録要件)、  
第3週 特許(実用新案登録)出願・手続、出願に関する諸原則・制度 特許出願及び出願手続、書類と記載事項・各書類の役割、優先権出願、分割・変更出願、補正、出願公開(目的、効果等)  
第4週 特許権(実用新案権) 特許権の効力(内容、効力の制限、消尽)、実用新案権の行使・実用新案権者の責任  
第5週 産業財産権条約 パリ条約、特許協力条約(国際出願、国際調査と国際公開、国際予備審査と国内移行)、TRIPS協定等、  
第6週 意匠制度(意匠法) 意匠法上の意匠、意匠登録出願、一意匠一出願、登録要件、新規性喪失の例外、類否判断、不登録事由、先願、手続補正、組物の意匠、秘密意匠、関連意匠、部分意匠  
第7週 (中間試験)またはレポート  
第8週 意匠制度(意匠法) 画面デザインの保護、要旨変更、出願の分割、出願変更、意匠権、権利の利用・抵触、実施権、権利侵害(37条~41条)、判定、審判、再審、訴訟  
第9週 商標制度(商標法) 商標法上の商標、保護対象、商標登録制度の内容、商標の識別力、使用による識別力の獲得、立体商標、商標の類否、商品・役務の類否、登録要件、周知・著名商標の保護、  
第10週 商標制度(商標法) 商標権の効力、類似と混同、権利の効力の制限、商標としての使用、真正商品の並行輸入、商標機能論、消尽、取消審判、更新、地域団体商標、団体商標制度、小売等役務商標制度、新しいタイプの商標(動き、ホログラム、色彩、位置、音)  
第11週 不正競争行為の禁止(不正競争防止法) 不正競争行為とは、不正競争行為の類型、適用除外、禁止行為、侵害に対する民事上の救済、侵害に対する刑事的制裁  
第12週 著作物にかかる制度(著作権法) 著作権法の沿革と目的、著作権の客体(著作物)、創作的表現・依拠、著作物の例示、著作者、著作者の権利、著作者人格権、著作権(財産権)の内容、保護期間、消尽  
第13週 著作物にかかる制度(著作権法) 著作権の制限規定の概要、著作隣接権、著作隣接権者(主体:実演者等)、保護期間、著作権侵害、著作権の擬制侵害、差止請求、損害賠償請求  
第14週 種苗法、半導体集積回路の回路配置に関する法律 種苗法の保護客体、品種登録の要件、育成者権、権利侵害に対する措置、保護期間、回路配置利用権の設定登録要件、他の知的財産権との比較、権利侵害に対する措置、保護期間  
第15週 (期末試験)またはレポート  
第16週 総復習  
学習教育目標 Cに対応 達成項目本科ホ)に対応 JABEE
認定基準
(C-1),(b),(d)-(4)に対応
教科書・参考書 教科書:『知的財産権法文集』(最新版) 発行:発明推進協会 
『知的財産権制度入門(平成27年度版)』特許庁編 PDFデータを提供(各自プリントして持参のこと)
参考書:『工業所有権法(産業財産権法)逐条解説〔第19版〕』特許庁 (編集)  発行:発明推進協会
上記以外は授業で紹介する。
評価方法及び
合格基準
成績の評価は、定期試験で行い、その平均が60点以上の者を合格とする。
学生へのメッセージ、
予習・復習について
授業において次回内容の予告をするので、その内容について教科書の該当箇所、配布資料、および関連条文(知的財産権法文集)に目を通して授業に臨むこと。普段から知的財産に関連するニュース報道等に気を配り、事件の概要を把握し、法律のあてはめや効果(結論)の試行を心掛けること。